Modeling Argon Ion Sputtering on a Silicon Surface
Application ID: 140971
Ion beam etching is a critical technique widely used in semiconductor manufacturing, materials science, and microelectromechanical systems (MEMS). This proof-of-concept model simulates argon ion sputtering of a silicon surface using the Charged Particle Tracing interface. A Deformed Geometry interface is used to capture sputter-driven surface evolution, enabling visualization and analysis of morphology changes.
Check out our accompanying blog post on this model: “Modeling Argon Sputtering on a Silicon Surface”.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.
