Chemisches Ätzen
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Dieses Beispiel veranschaulicht das Prinzip des nasschemischen Ätzens für 2D-Geometrien unter laminarer Strömung. Ziel dieses Tutorials ist es, zu untersuchen, wie das Kupfersubstratmaterial abgetragen wird und wie sich die Hohlraumform während des Nassätzprozesses entwickelt. Das nasschemische Ätzen ist besonders wichtig für die Mikroelektronikindustrie zur Strukturierung von integrierten Schaltkreisen, MEMS-Bauelementen, optoelektronischen und Drucksensoren. Bei Nassätzprozessen werden lösungsbasierte („nasse“) Ätzmittel verwendet, wobei das zu ätzende Substrat in einen kontrollierten Ätzmittelstrom getaucht wird.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.