Wafer Vacuum Adsorption by a Grooved Chuck
Application ID: 152121
In semiconductor manufacturing, vacuum chucks are used to rapidly and contamination-free adsorb and secure wafers before processes such as transfer, lithography, and inspection. Traditional empirical design makes it difficult to quantify the effects of groove shape, size, distribution, and initial wafer warpage on adsorption performance.
This example presents a coupled fluid-structure-contact model that captures the interaction between the pressure distribution in the chuck grooves and wafer deformation during adsorption. The model provides quantitative insight into the chucking mechanism and serves as a basis for optimizing groove design.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.
