Chemical Vapor Deposition of Titanium Nitride on Machining Tool Inserts
Application ID: 130411
Chemical vapor deposition (CVD) is a process used to grow thin films on substrates. In this CVD example, metal inserts for machining tools are coated with titanium nitride (TiN). The titanium nitride layer improves the wear resistance of the metal inserts by increasing the hardness, reducing friction, and reducing oxidation. Additionally, due to its golden appearance, the coating process is also performed for aesthetic purposes.The CVD reactor in this example operates at low pressures and high temperatures. These operating conditions ensure high diffusion, which is needed for efficient mass transfer onto the substrate surfaces and for homogeneous deposition thicknesses.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
- COMSOL Multiphysics® und
- entweder Battery Design Module, CFD Module, Chemical Reaction Engineering Module, oder Fuel Cell & Electrolyzer Module und
- entweder Battery Design Module, Chemical Reaction Engineering Module, Corrosion Module, Electrochemistry Module, Electrodeposition Module, oder Fuel Cell & Electrolyzer Module
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.