Kupferabscheidung in einem Trench mit der Level-Set-Methode

Application ID: 48781


Das vorliegende Modellbeispiel basiert auf dem Modell „Kupferabscheidung in einem Trench“, das in der Electrodeposition Application Library verfügbar ist.

Die ungleichmäßige Abscheidung entlang der Trenchoberfläche führt zur Bildung eines Hohlraums. Da das Interface Deformed Geometry keine topologischen Änderungen verarbeiten kann, kann das ursprüngliche Modell nicht erweitert werden, um die Abscheidung nach der Hohlraumbildung zu simulieren.

In diesem Modell wird das Interface Level Set anstelle des Interfaces Deformed Geometry verwendet, um die Ablagerung auch nach der Hohlraumbildung zu simulieren. Die Elektrodenkinetik am Rand der Ablagerung wird als Gebietsterm definiert, wobei die Deltafunktion aus dem Interface Level Set verwendet wird. Die aus der Level-Set-Formulierung vor der Hohlraumbildung erhaltenen Modellergebnisse stimmen gut mit dem ursprünglichen Modell überein.

Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden: